BAO Mask Avenger 2版本是一款由BAO Plugins出品的AE三维路径遮罩顶点切线控制插件，可以直接在AE中控制和编辑Mask路径和遮罩的顶点，而且还可以在3D模式下控制遮罩，而无需使用空图层和表达式。

然后可以更快地计算遮罩，并简化表达式编写。

BAO Mask Avenger v2版本的新功能：

公羊预览养护。

以前版本的最大问题是Ram预览被

插件无效。

Mask Avenger 2.0新的烘焙系统避免了这种情况。

3D面具。

Mask Avenger现在以3D方式控制遮罩，无需使用空层和表达式。

然后更快地计算掩码，并简化表达式编写。

背景烘烤。

当需要修改蒙版时，Mask Avenger会在

当前时间立即对其进行变形，并将工作区的其余部分在后台烘烤。

这意味着您可以

在Mask Avenger忙于烘焙时继续工作。

这取代了«动态»和«烘烤»模式。

更好的形状层兼容性。

与“动态”模式相关的错误在新的烘焙

系统中消失了。

工作区和图层的持续时间不再影响Mask Avenger的计算速度。

当然，

烘焙 100,000个关键帧需要比10个更长的时间，但新的烘焙系统允许您在

烘焙的同时继续工作。

不再需要Mask Renderer。

Mask Avenger现在使用AE自带的遮罩功能，运行速度更快。

蒙版预览。

Mask avenger 2.0有一个预览系统，可以在更改应用于蒙版之前动态地向您显示更改。

这避免了当蒙版被表达式、其他图层或相机修改时的延迟。

【插件要求】

插件语言：英文

插件兼容：After Effects CC 2023,2022,2021,2020,2019,2018,2017,2015,2014,CC,CS6 支持Win与Mac系统

使用帮助：带英文视频帮助教程

插件：

教程：